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机译:间隙填充形貌图案化衬底的化学机械抛光方法制备的平面化纳米图案化介孔二氧化硅薄膜
Materials and Supercritical Fluids Group, Department of Chemistry and the Tyndall National Institute, University College Cork, Cork, Ireland;
Gap fill; mesoporous; planarization; ultralow-dielectric-constant materials;
机译:使用化学机械抛光使用于有机薄膜晶体管的高κ纳米复合聚酰亚胺绝缘子平面化
机译:通过在钨 - 薄膜化学机械平坦化中使用苹果酸选择性剂,通过使用苹果酸选择性剂在钨膜和二氧化硅膜之间的高度选择性抛光速率
机译:通过激光干涉光刻技术对图案化的Al薄膜进行退火来制备纳米图案化的蓝宝石衬底
机译:化学机械抛光在平面化有机薄膜晶体管中使用的高K纳米复合聚酰亚胺绝缘体中的应用
机译:通过化学机械平面化对多层金属化结构的铝和铜薄膜进行构图的工艺和机理研究。
机译:通过软紫外-纳米压印光刻技术对图案化的Al薄膜进行退火处理大规模制造纳米图案化的蓝宝石衬底
机译:通过软紫外-纳米压印光刻技术对图案化的Al薄膜进行退火处理,大规模制造纳米图案化的蓝宝石衬底