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机译:比较用于泵浦109 nm Xe / sup 2 + / Auger激光器的激光等离子体靶材料
机译:基于双流Xe / He烟气靶标的13.5 nm激光产生的等离子体EUV源的表征和优化
机译:基于双流Xe / He烟气靶标的13.5 nm激光产生的等离子体EUV源的表征和优化
机译:目标材料对碰撞的激光产生等离子体的影响
机译:用于泵浦109 nm Xe / sup 2 + / Auger激光器的激光等离子体靶材的比较
机译:优化用于纳米光刻和材料检测的激光产生等离子体。
机译:基于辐射流体动力学模型的激光产生锡等离子体的EUV辐射演化分析
机译:基于双流Xe / He烟气靶标的13.5 nm激光产生的等离子体EUV源的表征和优化
机译:使用行波激光产生等离子体激发的Xe III 109nm激光器的饱和度,