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【24h】

Hydride vapor phase epitaxy revisited

机译:重新探讨氢化物气相外延

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摘要

The salient features of hydride vapor phase epitaxy (HYPE) process in the fabrication of optoelectronic devices are demonstrated by combining the state of the art results of several groups working in this field.
机译:通过结合在该领域工作的几个小组的最新技术成果,证明了光电器件制造中氢化物气相外延(HYPE)工艺的显着特征。

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