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机译:切割和蚀刻的刻面氮化物激光二极管
机译:切割和蚀刻的刻面氮化物激光二极管
机译:在GaAs衬底上的转移激光二极管上形成具有劈开面的氮化物激光腔
机译:在室温下,切割面氮化物二极管激光器在410 nm处产生160 mW
机译:在GaAs基材上的转移激光二极管上形成氮化物激光腔的形成
机译:具有分裂和晶体学刻蚀面的氮化镓基激光器的制造和表征。
机译:ER:YAGND:YAG和二极管(940nm)激光照射对两个步骤自蚀刻粘合剂的微调粘合强度的影响
机译:具有晶格匹配的Al0.82In0.18N / GaN多层作为n包层的刻面紫激光二极管
机译:具有干蚀刻垂直面和抛物面偏转镜的表面发射alGaas二极管激光器的高量子效率单片阵列。 (重新公布新的可用性信息)