凸版印刷、埼玉?朝霞工場で22?20nmフォトマスク量産体制

摘要

凸版印刷は、朝霞工場（埼玉県新座市）で22nm と20nm （ナノメートル：1nm は10億分の1メートル）のフォトマスク量産体制を整備した。設備投資額や生産能力などは非公表としているが、既存のフォトマスク生産ラインの改良により整備したため、それほど大きな投資は発生しなかったという。今後需要に応じて生産を行っていく。米?IBM との共同開発により、現在主流のArFリソグラフイ（光源に波長193nm のArFエキシマレーザーを使用した露光パターニング技術）での半導体製造を可能にする、22nm と20nmのフォトマスク量産技術を確立した。