Hochpräzise Nanoimprint-Templates für 3D-Strukturen

摘要

Nanostrukturierte Oberflächen mit funktioneilen Eigenschaften haben in den letzten Jahren immer mehr an Bedeutung gewonnen. Dabei wurden die Strukturen selbst immer kleiner und die zu strukturierenden Oberflächen immer größer, wodurch konventionelle Herstellungsverfahren, wie zum Beispiel die der photolithografisch basierenden Technologien, schnell an ihre Grenzen kamen. Eine für diese und andere Thematiken erfolgversprechende Technologie der Zukunft ist die Nanoimprint-Lithografie (NIL) beziehungsweise die direkt strukturierenden Nanoim-print-Verfahren.