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Lichtinduzierte Galvanotechnik zur Metallisierung von Siliziumsolarzellen

机译:光诱导电镀技术用于硅太阳能电池的金属化

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摘要

An overview is offered of light-induced metal elec-trodeposition (light-induced plating. LIP) as used in the metallising of p-n type semiconductor components. The fundamental relationships between illumination, potential and current are discussed. A method for determining average current flux at the cathode is presented. Typical applications in the field of photo-voltaics are described and discussed.%Die vorliegende Arbeit befasst sich mit lichtinduzierten Metallabscheideprozessen (light-inducedplating, HP), die auf Halbleiterbauelementen mit p-n-Über-gang realisierbar sind. Grundsätzliche Zusammenhänge zwischen Beleuchtung, Potentialen und Strömen werden diskutiert. Eine Methode zur Ermittlung des durchschnittlichen Stroms über die Kathode wird vorgestellt. Anwendungsbeispiele aus dem Bereich der Photovoltaik werden vorgestellt und diskutiert.
机译:提供了用于p-n型半导体元件的金属化的光感应金属电镀(光感应电镀。LIP)的概述。讨论了照明,电位和电流之间的基本关系。提出了一种确定阴极平均电流通量的方法。描述和讨论了光伏领域的典型应用。%这项工作涉及光诱导镀(HP)金属沉积工艺,该工艺可以在具有p-n结的半导体组件上实施。讨论了照明,电位和电流之间的基本关系。提出了一种确定通过阴极的平均电流的方法。提出并讨论了光伏领域的应用实例。

著录项

  • 来源
    《Galvanotechnik》 |2012年第7期|p.1562-1569|共8页
  • 作者

    Jonas Bartsch;

  • 作者单位

    Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISE, Freiburg;

  • 收录信息 美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 ger
  • 中图分类
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