...
首页> 外文期刊>Galvanotechnik >CVD-Beschichtungstechnologien
【24h】

CVD-Beschichtungstechnologien

机译:CVD涂层技术

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) zur Herstellung dünner Schichten aus verschiedensten halbleitenden, keramischen oder organischen Materialien mit den unterschiedlichsten Funktionen ist heute nicht nur in der Halbleiterindustrie eine unverzichtbare Produktionstechnologie, sondern auch in vielen anderen Bereichen das Mittel der Wahl zur Herstellung wettbewerbsfähiger Produkte.
机译:化学汽相沉积(CVD)用于从具有多种功能的各种半导体,陶瓷或有机材料生产薄层,不仅是半导体行业中必不可少的生产技术,而且在许多其他领域也是生产有竞争力产品的首选方法。

著录项

  • 来源
    《Galvanotechnik》 |2013年第4期|798-799|共2页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 ger
  • 中图分类
  • 关键词

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号