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机译:氢等离子体环境下电沉积铬(Ⅲ)氧化铬/碳化硅复合涂层的特性和行为
Guangxi Univ Sch Chem & Chem Engn Nanning 530004 Peoples R China|Tsinghua Univ Adv Mat Lab Sch Mat Sci & Engn Beijing 100084 Peoples R China;
Guangxi Univ Sch Chem & Chem Engn Nanning 530004 Peoples R China;
Tsinghua Univ Adv Mat Lab Sch Mat Sci & Engn Beijing 100084 Peoples R China;
Guangxi Univ Sch Chem & Chem Engn Nanning 530004 Peoples R China;
Hiroshima Inst Technol Fac Engn Dept Mech Syst Engn Saeki Ku 2-1-1 Miyake Hiroshima 7315193 Japan;
Hiroshima Inst Technol Fac Engn Dept Mech Syst Engn Saeki Ku 2-1-1 Miyake Hiroshima 7315193 Japan;
Tsinghua Univ Adv Mat Lab Sch Mat Sci & Engn Beijing 100084 Peoples R China;
Hydrogen plasma; Composite coating; Cr2O3; SiC; Pulse electrodeposition;
机译:氢等离子体环境下电沉积三氧化二铬/碳化硅复合涂层的特性和行为
机译:硅化铬-碳化铬外层改性的C / SiC复合材料的氧化保护碳化硅涂层
机译:碳化硅在脉冲电沉积镍涂层的相位演化和氧化行为中的作用
机译:通过在碳/碳复合材料上进行碳化HA和碳化硅的CVD或SPS涂层来防止氧化。
机译:加工-环境耐用的碳化硅/碳化硅复合材料的化学气相沉积氧化锆纤维涂层的微观结构关系。
机译:脉冲等离子体沉积在灰色铸铁上制造的碳化铬涂层的微观结构摩擦学特性和裂纹行为的评价
机译:使用铬和硅的非常规铬源沉积多组分铬碳化物涂层,与硼的微量加入
机译:碳和碳化硅长丝(增强复合材料)上电沉积镍的键强度特性