Effect of plasma process parameters on the obtained form of carbon structures on the polypropylene non-woven substrate

摘要

In this work the method of low-temperature glow discharge plasma for applying thin film of carbon on the non-woven polypropylene was used. Required for use in the technique of the electromagnetic field shielding properties of carbon coatings (high conductivity, good adhesion to the substrate and resistance to abrasion) are a consequence of the participation of graphite and diamond phases in the produced layer. In this work to identify the carbon phase Raman spectroscopy method was used%W pracy wykorzystano metodę niskotemperaturowej plazmy wyładowań jarzeniowych do nanoszenia cienkowarstwowych pokryć węglowych na włókninę polipropylenową. Wymagane do zastosowania w technice ekranowania pola elektromagnetycznego właściwości pokrycia węglowego (wysoka przewodność, dobra przyczepność do podłoża i odporność na ścieranie) są konsekwencją udziału faz grafitowej i diamentowej w wytwarzanej warstwie. W tej pracy do identyfikacji faz węglowych zastosowano metodę spektroskopii Ramana.