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1,3 Millionen Euro für die Siliziumkarbid-Forschung

机译:130万欧元用于碳化硅研究

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摘要

Den Wirkungsgrad der Stromversorgung in industriellen Prozessen zu erhöhen und dadurch Energie und CO_2 einzusparen, ist Ziel des neuen Verbundprojekts „Modulare Mittelfrequenz-Prozessstromversorgung mit Siliziumkarbid-Leistungshalbleiterschaltern", kurz MMPSiC: Forscher am Lichttechnischen Institut (LTI) des Karlsruher Instituts für Technologie (KIT) untersuchen gemeinsam mit den Industriepartnern TRUMPF Hüttinger und IXYS Semiconductor den Einsatz von Leistungshalbleiterschaltern aus Siliziumkarbid. Das Bundesforschungsministerium fördert das Projekt mit insgesamt 1,3 Millionen €. Von der Halbleiterfertigung über die Beschichtung von Displays bis hin zu Prozessen im Automobilbau verbrauchen viele industrielle Verfahren große Mengen elektrischer Energie. Darunter sind auch Technologien, die eine wichtige Rolle für die Energiewende spielen, wie das Zonenschmelzverfahren (Float-Zone-Ver-fahren) zum Herstellen von hochreinen kristallinen Werkstoffen: Die Substanz wird in einer schmalen Zone elektrisch geschmolzen; die Schmelzzone wird nach und nach weitergeführt. Hinter der Schmelzzone kristallisiert die Substanz reiner als zuvor. Das Zonenschmelzverfahren liefert unter anderem hochreine Silizium-Einkristalle für die Herstellung von Solarzellen.
机译:新的合作项目“带有碳化硅功率半导体开关的模块化中频过程电源”(简称MMPSiC)的目标是提高工业过程中电源的效率,从而节省能源和CO_2:卡尔斯鲁厄技术学院(KIT)的光技术研究所(LTI)的研究人员联邦研究部与工业伙伴TRUMPFHüttinger和IXYS半导体一起研究使用碳化硅制成的功率半导体开关,该项目的总投资额为130万欧元,从半导体制造到涂层显示器再到汽车工程流程,许多工业流程都需要大量消耗电能,包括在能量转换中起重要作用的技术,例如用于生产高纯度晶体材料的区域熔化工艺(浮区工艺)一个电熔熔化区逐渐继续。在熔化区的后面,该物质结晶得比以前更纯净。区域熔化工艺尤其提供了用于生产太阳能电池的高纯度硅单晶。

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    《Elektronikpraxis》 |2015年第5appa期|16-16|共1页
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