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MOVPE regrowth of semi-insulating InP around reactive ion etched laser mesas

机译:半绝缘InP在反应离子刻蚀激光台面周围的MOVPE再生长

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摘要

Semi-insulating iron doped InP was grown with MOVPE around reactive ion etched laser mesas without using any wet etchant to optimise the mesa shape or to form a mask overhang. To achieve good planarity and selectivity, growth was performed at high temperature and low pressure. The resulting 3 dB modulation bandwidth of the buried heterostructure laser was 7.9 GHz at 10.5 mW.
机译:使用MOVPE在反应离子刻蚀的激光台面周围生长半绝缘掺杂铁的InP,而无需使用任何湿法腐蚀剂来优化台面形状或形成掩模悬垂。为了获得良好的平面性和选择性,在高温和低压下进行生长。埋入式异质结构激光器的3 dB调制带宽在10.5 mW时为7.9 GHz。

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