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【24h】

Near room-temperature continuous-wave operation of all-monolithic InAlGaAs/InP 1.3 /spl mu/m VCSELs

机译:全单片InAlGaAs / InP 1.3 / spl mu / m VCSEL的近室温连续波操作

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摘要

InAlGaAs/InP-based all-monolithic 1.3 /spl mu/m VCSELs operating continuous wave up to 18/spl deg/C are demonstrated. The whole structure is grown by a single step of MOCVD. Selective wet etching of an InP layer is used to form an air-gap aperture for the current confinement. The threshold current of an 8 /spl mu/m device at 15/spl deg/C is /spl sim/2.8 mA.
机译:演示了基于InAlGaAs / InP的全单片1.3 / splμm/ m VCSEL,其连续波工作至18 / spl deg / C。整个结构通过MOCVD的一个步骤生长。 InP层的选择性湿法刻蚀用于形成用于电流限制的气隙孔。 8 / spl mu / m器件在15 / spl deg / C时的阈值电流为/ spl sim / 2.8 mA。

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