Floor Cushion Processによるuvナノインプリントにおけるnaho-imprint残膜の均一化技術

摘要

ナノインプリント技術は高価な露光装置を必要とぜず，微細なパrnターンの形成が可能な技術として注目が集まっている。そのアプrnリケーションの応用として，①パターンメディア，②LCDなどのrn光学部材，③光導波路，④マイクロレンズ，⑤3Dホログラムなどrnの光学部品，⑥燃料電池，⑦DNAチップなどのバイオ関連，などrnが検討されている。rn近年では，より微細なパターンの形成が可能な光ナノインプリンrnト技術に注目が集まっている。光ナノインプリントは液体状の樹rn脂を基板上にディスペンスし，石英の金型をごく弱い圧力で押し付rnけ，金型越しに露光を行う。光ナノインプリントは押し付ける圧力rnが弱いこと，樹脂が液状であることから，基板の平坦性の影響を受rnけやすく，均－なプレス残膜厚が得られない問題があった。産総研rnの廣島博士などは，基板を裏側から押しつけて，平坦性を強制するrnことで，残膜厚の均一化をはかる方法を提案している。われわれrnは，基板の裏面にスピン塗布することで，基板の凹凸を吸収し，残rn腰厚の均一化を図れる「Floor cushion process（座布団プロセス）」rnを開発したので，紹介する。