...
机译:使用先进的$ hbox {Si} ^ {+} $ Ion-,硅化镍的生长受到侵蚀并限制了硅化区域,从而导致nMOSFET的栅极边缘漏电流异常
CMOS; Si ion; implantation; leakage current; nMOSFETs; nickel silicide; nickel silicide encroachment; self-aligned silicide (SALICIDE);
机译:NMOSFET中高拉伸应力引起的异常栅极边缘泄漏
机译:用高级透射电子显微镜分析硅化镍异常生长的结漏电流故障
机译:使用阵列测试图案评估栅极$ hbox {SiO} _ {2} $膜的异常应力诱导的漏电流
机译:部分转换作为在高级CMOS中制造低电阻和低泄漏硅化镍薄膜的第一个硅化工艺