...
首页> 外文期刊>Electron Devices, IEEE Transactions on >Leti-UTSOI2.1: A Compact Model for UTBB-FDSOI Technologies—Part I: Interface Potentials Analytical Model
【24h】

Leti-UTSOI2.1: A Compact Model for UTBB-FDSOI Technologies—Part I: Interface Potentials Analytical Model

机译:Leti-UTSOI2.1:UTBB-FDSOI技术的紧凑模型—第一部分:接口电位分析模型

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
   

获取外文期刊封面封底 >>

       

摘要

A detailed presentation of the latest version of the Leti-UTSOI compact model is provided. Leti-UTSOI2 is the first available model able to describe the behavior of low-doped ultrathin body and buried oxide fully depleted silicon-on-insulator transistors in all bias configurations, including strong forward back bias. In this part, a full analytical calculation of interface potentials, valid for all regimes of independent double-gate device operation, is detailed. This analytical computation, which is the heart of Leti-UTSOI2, provides explicit expressions for all quantities required to build dc and ac core models.
机译:提供了最新版本的Leti-UTSOI紧凑模型的详细介绍。 Leti-UTSOI2是第一个可用的模型,能够描述在所有偏置配置中(包括强的正向反向偏置)低掺杂超薄体和掩埋氧化物完全耗尽型绝缘体上硅晶体管的行为。在本部分中,将详细介绍对接口电位的完整分析计算,该计算适用于独立双栅极器件操作的所有机制。这种分析计算是Leti-UTSOI2的核心,它为构建直流和交流磁芯模型所需的所有数量提供了明确的表达式。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号