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机译:纳米线n-MOSFET周围无掺杂沟道Si栅极中随机掺杂物波动引起的变异性
Department of Electrical EngineeringCentre of Excellence in Nanoelectronics, IIT Bombay, Mumbai, India;
CMOS integrated circuits; Logic gates; MOSFET; Resource description framework; Semiconductor process modeling; Silicon; Solid modeling; CMOS; Characteristic fluctuations; device performance; gate-all-around (GAA); mismatch; random dopant fluctuations (RDFs); silicon nanowire FET (NWFET); variability; variability.;
机译:窄栅全能硅纳米线晶体管中沟道长度和截面对随机离散掺杂引起的变异性影响的量子传输研究。
机译:全方位栅反型硅纳米线场效应晶体管上随机掺杂物波动的统计变异性研究
机译:随机掺杂波动引起的短沟道效应的可变性引起的晶体管失配的建模与分析
机译:源/漏扩展内的随机离散掺杂剂引起的非掺杂的全能栅极纳米线MOSFET的不对称特性波动
机译:45 nm栅极长度n-MOSFET陷阱引起的阈值电压波动仿真的比较分析和分析模型预测。
机译:随机离散掺杂剂引起的具有固定顶鳍宽度的16nm栅极梯形体FinFET器件的电特性波动
机译:利用外延和三角形掺杂通道抑制0.1-0μm以下mOsFET中的随机掺杂剂引起的阈值电压波动
机译:多晶硅栅极对具有薄栅氧化层的亚100nm mOsFET中随机掺杂诱导阈值电压波动的影响