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机译:共存离子对水溶液中表面活性剂修饰的木耳废底物吸附Cr(Ⅵ)的影响
Northeast Agr Univ Coll Resources & Environm Harbin 150030 Heilongjiang Peoples R China;
Auricularia auricula spent substrate (AASS); Cetyl trimethyl ammonium bromide (CTAB) modification; Coexisting ions; Competitive adsorption;
机译:通过表面活性剂改性Auricularia Auricula废底物去除Cr(VI):生物吸附条件和机制
机译:通过修饰和固定的Auricularia Auricula在固定床柱中除去Cr(VI)
机译:氢氧化钠修饰的Auricularia耳用废基质对水溶液中铅(II)的生物吸附:等温线,动力学和机理
机译:十六烷基溴化吡啶修饰的沸石对六价铬的吸附:表面活性剂负载量,溶液pH值,离子强度和共存阴离子的影响
机译:肺表面活性剂脂质和蛋白质在空气/水界面和水溶液中的吸附和相互作用。
机译:表面活性剂改性膨润土对水溶液中Cr(VI)的吸附
机译:水溶液中酸性蓝129的吸附到原料和表面活性剂改性的膨润土上:取决于温度的吸附等温线形式的应用。