机译:通过后退火的Sill方法生长的氧化铜膜的结构,光学和电性能
copper oxideCu 2 OCuOsuccessive ionic layer adsorption and reactionSILAR;
机译:通过改性Sill方法生长亚氧化亚铜薄膜的结构,光学,电气和光电子化学性质
机译:后退火对原子层沉积生长氧化锰薄膜的结构,电学和光学性质的影响
机译:通过SILAR方法生长的CdO / Cd(OH)_2薄膜的结构,光学和电学性质
机译:退火过程对浸泡技术生长氧化铜薄膜结构,光学和电性能的影响
机译:通过脉冲激光沉积和溶胶-凝胶法控制氧化锌薄膜的电阻率和光学性质。
机译:宽带隙氧化物衬底对通过连续离子层吸附和反应(SILAR)法生长的CdS纳米粒子的光电化学性质和结构无序的影响
机译:退火对Sill方法制备的氧化铜薄膜结构和光学性质的影响