...
机译:电压脉冲宽度和同步衬底偏置在锆膜的高功率脉冲磁控溅射中的影响
zirconiumhigh-power impulse magnetron sputteringpulse width;
机译:偏压对大功率脉冲磁控溅射沉积Ti-Si-N薄膜微结构和硬度的影响
机译:Ti1-xAlxN薄膜生长过程中的金属与稀有气体离子辐照,采用同步脉冲衬底偏置的混合高功率脉冲磁控管/直流磁控管共溅射
机译:受控反应性高功率脉冲磁控溅射在二氧化锆膜沉积过程中的发射光谱
机译:高功率脉冲直流磁控溅射对二氧化锆透明膜的高反应性沉积
机译:大功率脉冲磁控溅射中的异常电流和电压波动。
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:Ti1-xAlxN薄膜生长过程中的金属与稀有气体离子辐照,采用同步脉冲衬底偏置的混合高功率脉冲磁控管/直流磁控管共溅射