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Epitaxial nucleation and growth mechanism of III-V compound semiconductors

机译:III-V族化合物半导体的外延成核与生长机理

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摘要

An attempt has been made to investigate nucleation and growth mechanism of III-V compound semiconductors from vapour-phase epitaxy (VPE) and liquid-phase electroepitaxial (LPEE) growth techniques. Critical nucleation parameters have been derived using cla
机译:已经尝试通过气相相外延(VPE)和液相电外延(LPEE)生长技术研究III-V型化合物半导体的成核和生长机理。关键成核参数已使用cla推导

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