INFLUENCIA DEL SUSTRATO, ESPESOR DE LA CAPA Y TéCNICA DE DEPóSITO EN LA TEXTURA CRISTALOGRáFICA DE PELíCULAS DELGADAS DE TiN

摘要

Este trabajo presenta los resultados del depósito de recubrimientos de TiN sobre sustratos metálicos (acero AISI M2 y AISI 304) mediante diversas técnicas tales como la deposición física en fase vapor, Pulverización Catódica con Magnetrón e Implantación Iónica. Con el fin de identificar las fases presentes, así como la estructura cristalina, la textura cristalográfica, y los parámetros de red de los recubrimientos, se utilizó difracción de rayos X con bajo ángulo de incidencia. El espesor de las películas se midió mediante análisis de las imágenes obtenidas por microscopia electrónica de Barrido. Los recubrimientos de TiN obtenidos por Pulverización Catódica con Magnetrón mostraron una orientación preferencial en el plano (200), lo cual está de acuerdo con la literatura. Este plano tiene la menor energía superficial. Los recubrimientos de TiN producidos por Implantación Iónica mostraron una alta textura cristalográfica en el plano (111), el cual tiene la menor energía de deformación elástica. Para recubrimientos depositados en el acero AISI 304 , la intensidad del plano (200) pareció incrementar con el aumento del espesor del recubrimiento. Sin embargo, este no era el caso de los recubrimientos depositados sobre acero AISI M2.