真空蒸镀Nd:YAG薄膜的工艺研究 Study on the Process of Nd:Y₃Al₅O₁₂ Thin Films by Evaporation Deposition

摘要

本文采用真空电子束蒸发镀膜工艺制备Nd:YAG薄膜，结合XRD、SEM等手段分析研究不同衬底材料、镀膜材料以及退火温度对薄膜材料结构的影响，并分析测试了Nd:YAG薄膜的光致发光特性。镀膜材料为Nd:YAG粉体块，Si片上沉积的Nd:YAG薄膜材料，经1100?C退火后，具有单一YAG晶相结构，薄膜结晶晶粒均匀细小，并在室温下测试获得1064 nm主荧光峰的宽带荧光光谱。