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【24h】

Realization of Vertically Stacked InGaAs/GaAs Quantum Wires on V-Grooves with (322) Facet Sidewalls by CHEMICAL Beam Epitaxy

机译:通过化学束外延在具有(322)刻面侧壁的V型槽上垂直堆叠InGaAs / GaAs量子线的实现

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摘要

We report, for the first time, the fabrication of vertically stacked InGaAs/GaAs quantum wires (QWRs) on V-grooved substrates by chemical beam epitaxy (CBE). To fabricate the vertically stacked QWRs structure, we have grown the GaAs resharpening barrier l
机译:我们首次报告了通过化学束外延(CBE)在V型槽衬底上垂直堆叠InGaAs / GaAs量子线(QWR)的制造。为了制造垂直堆叠的QWR结构,我们已经生长了GaAs重磨阻挡层l

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