机译:真空技术构成的表面层深度对点蚀的影响
机译:真空技术构成的表面层深度对点蚀的影响
机译:SIMS / GDMS深度剖面分析揭示了AISI 410和AISI 321不锈钢表面层中真空加热的影响
机译:使用真空沉积技术在纺织品表面上制造导电层
机译:用超高真空溅射扩大的GaN单晶层的Si和O杂质的表面污染
机译:基于外延锗层的金属氧化物半导体器件,通过超高真空化学气相沉积直接在硅衬底上选择性生长
机译:通过深度分析和核反应分析定量分析表面和界面层以及散装材料中的氢浓度
机译:未来真空技术材料的开发。表面沉淀的表面处理,减少除气。