机译:高碘酸钾(KIO_4)溶液中Cu / Ru对的微电腐蚀
Tsinghua Univ, State Key Lab Tribol, Beijing 100084, Peoples R China;
KTH Royal Inst Technol, Div Surface & Corros Sci, SE-10044 Stockholm, Sweden;
Tsinghua Univ, State Key Lab Tribol, Beijing 100084, Peoples R China;
Tsinghua Univ, State Key Lab Tribol, Beijing 100084, Peoples R China;
Electronic materials; AFM; EIS; Raman spectroscopy; Interfaces; Oxidation;
机译:基于钾的基于溶液,用于最小化Cu-Mn接口的电抗腐蚀,用于抛光相关的Cu互连结构
机译:与化学机械抛光有关的高碘酸钾溶液中钌的腐蚀研究
机译:Cu / Ru夫妇在Ru化学机械抛光过程中的电抗腐蚀抑制剂
机译:高碘酸钾(KIO4)溶液中铜-钌对的微电腐蚀
机译:与SiC / Al MMC相关的微电化学腐蚀池
机译:3-氨基-1224-三唑-5-硫醇对3%NaCl溶液中黄铜60Cu-40Zn的腐蚀抑制作用
机译:铈对AZ91微镀锌元素形成的影响