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机译:约束二次曝光优化扫描激光光刻
School of Electrical Engineering and Computing University of Newcastle Callaghan NSW Australia;
School of Electrical Engineering and Computing Universit;
Lithography; Laser beams; Resists; Measurement by laser beam; Optimization; Adaptive optics; Acoustic beams;
机译:扫描激光光刻中的曝光优化
机译:使用二次约束和二阶锥规划优化半导体光刻设备中的镜头调整
机译:强次可行方向的简单顺序二次约束二次规划方法
机译:实验扫描激光光刻,具有曝光优化
机译:白垩纪点状棒的高分辨率3-D架构,它使用了多次曝光的地面激光扫描:比以前想象的要复杂得多的棒状模型在蒸汽室范围内的生长。
机译:PDE约束优化引起的二次编程问题的快速内点解
机译:二次约束和二阶锥形编程(机械系统)半导体光刻设备透镜调整优化
机译:通过光子扫描隧道显微镜进行激光光刻。