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【24h】

Atomic Design Design of Polarity of GaN Films Grown on SiO(0001)

机译:SiO(0001)上生长的GaN薄膜极性的原子设计

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摘要

Ab initio total energy calculations are used to determine the interface structure of GaN films grown on 6H-SiC(0001) with different substrate reconstructions. The results indicate that GaN films grown on bare SiC(0001) are of the Ga-polatrity, while GaN films grown on SiC(001) with Si adlayer are of the N-polarity if there is no N-Si interchange at the interface. With the interchange, the GaN films are of the Ga-polarity.
机译:从头算起总能量的计算用于确定在6H-SiC(0001)上生长的GaN膜的界面结构,并具有不同的衬底构造。结果表明,如果在界面处没有N-Si交换,则在裸露的SiC(0001)上生长的GaN膜具有Ga极性,而在具有Si附加层的SiC(001)上生长的GaN膜具有N极性。通过互换,GaN膜具有Ga极性。

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