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机译:使用苯甲酸甲醇的酸催化脱水的负性抗性:化学结构与抗性之间的相关性
Electron Tube & Devices Division, C/O Central Research Laboratory, Hitachi Ltd., 1-280 Higashikoigakubo, Kokubun-ji, Tokyo 185, Japan;
机译:基于酸催化缩醛化的环保负性抗蚀剂,用于193 nm光刻
机译:化学放大抗蚀剂中叔丁氧羰基氧基聚合物的酸催化脱保护机理
机译:横向视电阻率对2D地电结构元素电阻率变化的敏感性
机译:利用苯甲醇的酸催化分子内脱水进行电子束光刻的负性抗蚀剂
机译:砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行,并通过荧光进行抗蚀剂研究。
机译:Cr / BaTiOx / TiN结构和量子电导通过H2O2感应机理的证据证明负电压调制多级电阻开关
机译:EB抗蚀剂电子敏感性与聚合物化学结构的关系。 II。缩醛化聚乙烯醇作为新的阴性EB抗蚀剂