机译:原位纳米级组合物和结构在形成超薄硅化镍期间
Uppsala Univ Dept Phys & Astron Angstrom Lab Box 516 SE-75120 Uppsala Sweden;
IBM Corp Thomas J Watson Res Ctr POB 704 Yorktown Hts NY 10598 USA;
Uppsala Univ Dept Elect Engn Angstrom Lab Solid State Elect SE-75121 Uppsala Sweden;
Uppsala Univ Dept Phys & Astron Angstrom Lab Box 516 SE-75120 Uppsala Sweden;
Ultrathin; Nickel silicide; Epitaxial silicide; In-situ characterization; High-resolution ion scattering;
机译:Si(100)上超薄镍硅化物的相形成和热稳定性
机译:硅化镍对纳米级互补金属氧化物半导体技术衬底掺杂剂的依赖性
机译:HAADF-STEM成像对硅化镍的成分表征
机译:贯穿硅化物和低温炉退火的镍化浅N〜+ P结的形成与表征
机译:超薄镍硅化物膜的X射线吸收细结构研究
机译:使用3D中能离子散射原位表征超薄硅化镍
机译:使用3D中型能离子散射的超薄镍硅化物的原位表征