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机译:多层沟道MOSFET的建议:选择性蚀刻在Si / SiGe堆叠层中的应用
Mosfet; Double gate; Three-dimensional structure; Sige selective etching; Current drivability; Multi-layer channel;
机译:HCl化学气相蚀刻和SiGe:B选择性外延的集成,用于MOSFET的源极/漏极应用
机译:通过原位掺杂选择性Cvd外延生长形成具有嵌入Sige源极/漏极的高Ge组分本征Sige-异质沟道Mosfets
机译:用TMAH溶液制造SiGe纳米线的选择性湿法蚀刻,用于栅极 - 全面的MOSFET
机译:用于器件的SiGe / Si系统中的SiGe层的选择性刻蚀研究
机译:纳米级处理中的等离子体表面相互作用:通过硅选择性保留低k完整性和高k栅堆叠蚀刻。
机译:用于制造直径小于20 nm的垂直纳米线阵列的SiGe新型干法选择各向同性原子层蚀刻。
机译:用多层微通道制造3D玻璃微流体装置的选择性激光诱导蚀刻(SLE)的优化
机译:siGe / si异质结构上siGe的选择性刻蚀