机译:通过脉冲激光沉积在温度梯度基板上生长Sr_2Rh_(1-x)Ru_xO_4(0≤x≤1)成分扩散膜
Materials and Structures Laboratory, Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta, Midori, Yokohama 226-8503, Japan;
composition-spread film; pulsed laser deposition; temperature-gradient substrate;
机译:(La_(1-x)Ca_x)VO_3成分扩散膜的组合脉冲激光沉积和热电
机译:脉冲激光沉积在柔性PET衬底上Hf_xZn_(1-x)O薄膜的生长和性能
机译:在MgO衬底上通过脉冲激光沉积生长的KTa_(1-x)Nb_xO_3薄膜的生长和光学性质
机译:组合脉冲激光沉积和(CA_(1-X)A_X)_3CO_4O_9(A:SR,BA)组成 - 涂膜的热电
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:在钠钙玻璃基板上通过脉冲激光沉积生长的ZnO膜,用于表皮葡萄球菌生物膜的紫外线灭活
机译:脉冲激光沉积在SRTIO3基材上高质量Bi2O2Se薄膜的外延生长和表征
机译:脉冲激光沉积外延sr(Ru(sub x)sn(sub 1-x))O(sub 3)薄膜电极和KNbO(sub 3)/ sr(Ru(sub x)sn(sub 1-x)) O(sub 3)双层