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机译:脉冲激光沉积及其在制备羟基磷灰石薄膜中的研究现状
Shandong Univ, Sch Mat Sci & Engn, Shandong 250061, Jinan, Peoples R China;
Shandong Informat Technol Coll, Shandong Weifang 261041, Peoples R China;
Harbin Inst Technol, Sch Mat Sci & Engn, Heilongjiang Harbin 150001, Peoples R China;
pulsed laser deposition; mechanism; hydroxyapatite; thin films; DIFFERENT SUBSTRATE TEMPERATURES; COATINGS; ABLATION; GROWTH;
机译:脉冲激光沉积和基质辅助脉冲激光蒸发生长的羟基磷灰石薄膜:比较研究
机译:烧蚀激光脉冲重复频率对脉冲激光沉积法沉积羟基磷灰石薄膜表面突出密度的影响
机译:激光能量密度和环境气压对脉冲激光沉积法沉积羟基磷灰石薄膜表面形态和化学组成的影响
机译:羟基磷灰石薄膜通过脉冲激光沉积生长:通过插入锡缓冲层的Ti合金基板钝化对膜性能的影响
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:C轴的体外溶解和力学行为优先取向脉冲激光沉积制造的羟基磷灰石薄膜
机译:脉冲激光沉积硅取代羟基磷灰石薄膜中成分转移的研究
机译:用于激光器和准相位匹配器件的薄膜脉冲激光沉积。