机译:研究吸附并结合到电镀铜层中的有机杂质
Leibniz Inst Solid State & Mat Res Dresden, D-01171 Dresden, Germany;
electroplating; copper; self-annealing; additives; surface contamination; GD-OES;
机译:电镀铜自退火的表征,其研究重点在于掺入杂质
机译:电镀铜,湿法腐蚀铜和线性扫描伏安法作为研究原子层沉积的Al_2O_3孔隙率的技术的比较
机译:电镀铜,湿法腐蚀铜和线性扫描伏安法作为研究原子层沉积的Al_2O_3孔隙率的技术的比较
机译:表面增强拉曼光谱法(SERS)原位研究铜电镀液中有机添加剂的相互作用
机译:显微镜和光谱学研究:I.电镀液中的铜添加剂系统。二。支持的磷脂双层系统。
机译:组装透明无机氧化物纳米颗粒薄层电阻率:二氧化硅绝缘杂质和表面活性剂层厚度的影响
机译:掺杂有机太阳能电池ZnO缓冲层中掺入铜纳米粒子的影响
机译:铜电镀液中无机添加剂的在线监测