机译:HCP金属膜中应变能与晶粒取向的关系
Shaanxi Normal Univ, Coll Phys & Informat Technol, Xian 710062, Shaanxi, Peoples R China;
Xian Jiaotong Univ, State Key Lab Mech Behav Mat, Xian 710049, Peoples R China;
ENSAM, LIM, UMR 8006, F-75013 Paris, France;
HCP films; texture; strain energy; calculation; EMBEDDED-ATOM METHOD; SURFACE-ENERGY; THIN-FILMS; ANISOTROPY ANALYSIS; METHOD MODEL; FCC METALS; BCC METALS; GROWTH; COPPER; IMPURITIES;
机译:应力和应变能与FCC金属膜中晶粒取向的关系
机译:刚性基底上hcp((c / a)<1.633)结构的金属膜中应变能驱动的异常晶粒长大的理论分析
机译:体心立方晶格的金属中晶界能的方向依赖性
机译:HCP金属点蚀过程中的取向依赖性和结合
机译:晶界界面转变的温度依赖性及其对晶界特征和能量分布的影响。
机译:C60膜中Meyer–Neldel能量的电场和晶粒尺寸依赖性
机译:使用自动晶体定向映射的原位TEM紧张研究超细粒化铝膜中的晶粒旋转
机译:利用多色亚微米X射线衍射实现薄膜中高空间分辨率晶粒取向和应变映射