机译:Si(111)3 x 1-Ag重建表面的势垒高度成像
Department of Materials Science & Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, Japan;
scanning tunneling microscopy (STM); barrier height (BH); decay rate; surface local density of state (LDOS); Ag; Si(111);
机译:Si(111)3 x I-Ag重建表面的势垒高度成像
机译:氢封端的Si(111)上的表面掺杂原子的扫描隧道显微镜势垒高度成像
机译:表面X射线衍射研究Si(111)-6×1-Ag表面的结构
机译:吸附K(7)的Si(111)7x7表面的STM和势垒高度研究
机译:用扫描隧道显微镜研究硅(111)7 x 7重建表面上的原子台阶结构
机译:Pb重建的Si(111)表面上的类硅碳纳米带的结构模型
机译:吸附改性和重构表面的局部隧道势垒高度研究
机译:siH2在重构si(111) - (7x7)和si(111) - (1x1)表面的非均相反应的计算研究。