机译:室温下通过脉冲激光沉积制备的ITO薄膜的电,结构和光学性质
Yonsei Univ, Dept Elect & Elect Engn, Seoul 120749, South Korea;
transparent conducting oxide (TCO); indium tin oxide (ITO); pulsed laser deposition (PLD); rapid thermal annealing (RTA); INDIUM-TIN-OXIDE; CRYSTALLIZATION; ABLATION;
机译:ITO缓冲层对脉冲激光沉积技术制备的ZnO多层薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:室温下通过脉冲激光沉积制备的ITO薄膜的结构,电子和光学性质
机译:通过脉冲激光沉积制备的n型导电磷掺杂ZnO薄膜的结构,电学,光致发光和光学性质
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机译:原位热退火工艺对脉冲激光沉积制造CDS Cdte薄膜太阳能电池结构,光学和电性能的影响
机译:脉冲激光沉积法制备MgAl2O4-(Ni0.5Zn0.5)Fe2O4薄膜的磁性和光学性质
机译:脉冲激光沉积制备的薄Ag2Cu2O4薄膜的结构,光学和电性能研究