机译:氧化时间对AISI 304L上热生长氧化膜的半导体行为的影响
Univ Mouloud Mammeri Tizi Ouzou, Lab Mat Electrochim & Corros, Harbin 150006, Peoples R China;
Univ Grenoble, Lab Electrochim & Physicochim Mat & Interfaces, UMR 5631, Grenoble, France;
304L stainless steel; photocurrent; oxide films; PASSIVE FILMS; STAINLESS-STEELS; NEUTRAL SOLUTIONS; IRON; FE; TEMPERATURE; LAYERS; CR;
机译:在AISI 304L不锈钢和Incoloy 800HT上暴露于超临界水环境中生长的氧化膜的分析
机译:AISI 304L不锈钢上热形成氧化膜的阻抗研究
机译:AISI 304不锈钢上钝化膜和热生长氧化物的结构和半导体性能的比较研究
机译:在氢水化学条件下AISI 304L的CT标本裂纹植物后氧化膜表征
机译:研究热生长和远端PECVD沉积的二氧化硅薄膜中的局部原子结构和热历史。
机译:在热生长的二氧化硅上沉积纳米柱优先取向的PSZT薄膜
机译:aIsI 304L预裂纹CT试样在288℃水上升位移试验中形成氧化膜的研究