机译:非周期性Mo / Si多层膜的X射线界面分析
Laboratoire de Chimie-Physique, Matiere et Rayonnement, Universite Pierre et Marie Curie, Paris 6, UMR-CNRS 7614, 11 rue Pierre et Marie Curie, F-75231 Paris Cedex 05, France;
aperiodic multilayer; interface; silicide; X-ray emission;
机译:通过扫描Microbeam小角X射线散射测量模型多层Al / Al-Zn / Al样品中渐变界面层的微观结构分析
机译:用于X射线光学器件的非周期性W / B4C多层系统:通过HAADF-STEM和X射线反射率定量确定层厚度
机译:多层结构界面夹层的X射线反射率研究:在Mo / Si多层膜中的应用
机译:EUV /软X射线多层的非周期性设计反射通带扩展
机译:一维周期性和非周期性多层结构中Bloch面波的计算建模。
机译:非周期性Thue-Morse多层膜可自发提高发射速率
机译:通过扫描Microbeam小角X射线散射测量模型多层Al / Al-Zn / Al样品中渐变界面层的微观结构分析