机译:亲水硅表面上十八烷基三氯硅烷和3-巯基丙基三甲氧基硅烷自组装单分子膜的生长比较研究
Institut fuer Anorganische und Analytische Chemie, Johann Wolfgang-Goethe Universitaet, Max-von-Laue Strasse 7, D-60438 Frankfurt am Main, Germany;
atomic force microscopy; organosilane self-assembled monolayers; silicon oxide; surface modification; x-ray photoelectron spectroscopy;
机译:形成温度和粗糙度对硅表面十八烷基三氯硅烷自组装单层表面电势的影响
机译:十八烷基三氯硅烷自组装单分子膜对浸在正醇中的硅/二氧化硅的侧向力显微镜研究
机译:原子力显微镜研究吸收水层结构对十八烷基三氯硅烷自组装单层在氧化硅上生长机理的影响
机译:使用十八烷基三氯硅烷(OTS)自组装单层-A动力学研究的Si(100)的表面官能化
机译:烷烃硫醇自组装单分子层,反应性自组装单分子层,扁平金纳米颗粒/铟锡氧化物基质的生长介质和温度依赖性结构相的扫描隧道显微镜研究,以及互补金属氧化物中局部机械应力表征的扫描表面光电压显微镜研究半导体器件。
机译:自组装单层的底物介导传递:表面电离亲水性和构图的影响
机译:改进的十八烷基三氯硅烷自组装单分子膜作为正阻层,用于亚稳氦原子束光刻