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机译:双束Tof-sims成型过程中稳态注入到硅中的Cs的深度分布
USE Laboratory, Facultes Universitaires Notre-Dame de la Paix, Rue de Bruxelles 61, B-5000 Namur, Belgium;
cesium; depth profiling; silicon; dynamic trim;
机译:使用TOF-SIMS进行铯/氙气双光束深度分析:M〜+,MCs〜+和M_2Cs_2〜+收率的测量和建模
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机译:通过双光束TOF-SIMS与模拟相结合的SIO_2 / SIC接口的Sub-nm的深度分辨率分析
机译:使用ToF-SIMS和簇离子束进行分子深度分析和楔形坑斜切
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