机译:脉冲激光烧蚀SrAl_2O_4:Eu〜(2 +),Dy〜(3+)薄膜的俄歇电子/ X射线光电子和阴极荧光光谱研究
Physics Department, University of the Free State, P.O. Box 339, Bloemfontein, ZA 9300, South Africa,Department of Laboratory Technology, Dar Es Salaam Institute of Technology, P.O. Box 2958, Dar Es Salaam, Tanzania;
Physics Department, University of the Free State, P.O. Box 339, Bloemfontein, ZA 9300, South Africa;
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SrAl_2O_4:Eu~(2+)Dy~(3+); CL; electron degradation; ESSCR;
机译:氧气压力对脉冲激光烧蚀SrAl_2O_4:Eu〜(2 +),Dy〜(3+)薄膜光致发光性能的影响
机译:激光烧蚀SrAl_2O_4:Eu〜(2 +),Dy〜(3+)薄膜在最佳衬底温度范围上的沉积特性
机译:CaS:Eu〜(2+)脉冲激光沉积薄发光膜的俄歇电子能谱研究和深度分布分析
机译:脉冲激光烧蚀制备SrAl_2O_4:Eu〜(2 +),Dy〜(3+)掺杂纳米粒子
机译:对III-V族化合物半导体的等离子退火(等离子沉积,硅氮化物,离子注入)进行俄歇电子和X射线光电子能谱研究。
机译:脉冲激光沉积获得的MoSx〜2 +δ/ Mo和MoSx〜3 +δ膜中氢析出的结构组成和电催化性能的比较研究
机译:通过脉冲激光沉积获得的MOSX〜2 +δ/ MO和MOSX〜3 +δ膜的氢气进化结构,组成和电催化性能的比较研究
机译:不同表面预处理对CdTe表面的X射线光电子和俄歇电子能谱研究:光电化学和电容势能与表面化学成分的相关性