机译:脉冲偏压占空比对TiN / TiAIN多层涂层组织和力学性能的影响
State Key Laboratory of Advanced Welding and joining, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, PR China;
State Key Laboratory of Advanced Welding and joining, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, PR China;
arc ion plating; surface hardness; tin/tiain; multilayer coatings; duty ratio;
机译:勘误表,目标频率,偏置电压和偏置频率对脉冲直流CFUBM溅射TiN涂层的微观结构和力学性能的影响,[表面与涂层技术,(2010),204,3674-3697]
机译:阴极电弧蒸发沉积多层TiAIN / CrN涂层的力学性能
机译:目标频率,偏置电压和偏置频率对脉冲直流CFUBM溅射TiN涂层的组织和力学性能的影响
机译:脉冲频率和衬底偏压对脉冲DC磁控溅射沉积CRN涂层机械性能的影响
机译:微观结构对硬过渡金属氮化硅纳米复合涂层力学性能的影响。
机译:高电流脉冲电子束照射机械合金化铝涂层的微观结构和性能
机译:多层Tizrn / Tisin复合涂料与纳米级拱型纳米弧蒸发的微观结构和纤维化学性能