机译:通过三极管磁控溅射沉积的TiAIN涂层可改变偏置电压
Laboratorio de Fisica del Plasma, Universidad National de Colombia Sede Manizales, Cra. 27 No. 64-60, Manizales, Caldas, Colombia Laboratorio de Materiales, Universidad National de Colombia Sede Medellin, Sede MedellSn. Antioqula. Colombia;
Laboratorio de Fisica del Plasma, Universidad National de Colombia Sede Manizales, Cra. 27 No. 64-60, Manizales, Caldas, Colombia;
Laboratorio de Fisica del Plasma, Universidad National de Colombia Sede Manizales, Cra. 27 No. 64-60, Manizales, Caldas, Colombia;
Escola Politecnica da Universidade de Sao Paulo, Depto. de Engenharia Metalurgica e de Materials, Sao Paulo, SP, Brazil;
Laboratorio de Materiales, Universidad National de Colombia Sede Medellin, Sede MedellSn. Antioqula. Colombia;
Titanium aluminum nitride; Crystallography; Microstructure; Hardness; Adhesion;
机译:偏置电压对三极管磁控溅射制备的氮化钛铝涂层的机械和摩擦学性能的影响
机译:偏压对RF磁控溅射沉积钽氮化物涂层微结构和性能的影响
机译:高功率脉冲磁控溅射技术在不同偏压下沉积的Ti-Al-N涂层的表面特性
机译:溅射气体压力和偏压对直流磁控溅射沉积TiN涂层力学性能的影响
机译:调制脉冲功率磁控溅射沉积氮化钛和氮化铝钛涂层的摩擦学和结构性能
机译:不同偏置电压Cr-Al-C涂层溅射磁控管的化学和形貌特征
机译:不同偏压Cr-al-C涂层溅射磁控管的化学和形貌表征