The University of Shiga Prefecture Hikone, Shiga, Japan;
机译:无弧深振荡磁控溅射与脉冲直流磁控溅射相结合沉积的CrN / TiN超晶格涂层的力学和摩擦学性能
机译:衬底偏置电压对脉冲直流磁控溅射TiN-MoSx复合涂层结构和力学性能的影响
机译:偏置电压对中频磁控溅射沉积厚CrN涂层结构和力学性能的影响
机译:脉冲频率和衬底偏压对脉冲DC磁控溅射沉积CRN涂层机械性能的影响
机译:调制脉冲功率磁控溅射沉积氮化钛和氮化铝钛涂层的摩擦学和结构性能
机译:不同偏置电压Cr-Al-C涂层溅射磁控管的化学和形貌特征
机译:溅射气体压力对DC磁控溅射沉积锡涂层力学性能的影响