机译:Ag_2O / HF溶液中催化化学刻蚀形成的硅纳米线的制备与光学表征
Graduate School of Engineering, Cunma University, Kiryu, Cunma 376-8515, Japan;
Graduate School of Engineering, Cunma University, Kiryu, Cunma 376-8515, Japan;
Si nanowire; catalytic etching; Ag_2O; spectroscopic ellipsometry; optical absorption; wettability;
机译:气化HF溶液中宏观电化学电池驱动金属催化化学刻蚀制备硅纳米线阵列
机译:“湿化学腐蚀的硅纳米线的腐蚀勘误:腐蚀参数对形态和光学特性的影响”能源161(2018)180-186]
机译:湿法化学刻蚀的硅纳米线:刻蚀参数对形貌和光学特性的影响
机译:使用SU-8在GaAs中化学辅助离子束刻蚀的特性和形状双折射结构的制造
机译:通过聚焦离子束诱导的选择性混合和湿法化学蚀刻形成光通道波导:设计,制造和表征。
机译:通过金属辅助化学刻蚀形成的硅纳米线阵列的光学特性:光定位效应的证据
机译:通过金属辅助化学刻蚀形成的硅纳米线阵列的光学特性:光定位效应的证据