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机译:溅射参数和衬底组成对钽薄膜结构的影响
Clinic of Fixed and Removable Prosthodontics and Dental Material Science, Center of Dental Medicine, University of Zuerich, Switzerland;
Institute of Geochemistry and Petrology, ETH Zuerich, Switzerland;
Tantalum; Phase transformation; Magnetron sputtering;
机译:磁控溅射氧氮化钽薄膜的组成和结构变化,取决于沉积参数
机译:原位衬底加热和沉积后退火对反应溅射生长钽氧化物薄膜组成和电性能的影响
机译:RF和DC磁控溅射参数对钽 - 二硼化薄膜结构形成的影响的比较分析
机译:直流磁控溅射参数对二硼化钽薄膜结构,组成和摩擦学性能的影响
机译:通过多离子束反应溅射沉积的铁电钛酸铅镧薄膜的组成/结构/性质关系。
机译:靶成分和溅射沉积参数对沉积在聚合物基底上的氮化银-坡莫合金柔性薄膜功能性能的影响
机译:磁控溅射在单晶硅(100)上的氩气和氧离子衬底上生长的氧化钽薄膜中极化态的起始
机译:基体组成对反应溅射alN薄膜压电响应的影响;薄固体薄膜