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机译:使用O_2等离子体处理化学浴沉积的SnS的光电性能
Facultad de Ciencias, Universidad Autonoma del Estado de Mexico, Estado de Mexico, Mexico, Mexico;
Institute de Ciencias Fisicas, Universidad National Autonoma de Mexico, Apartado Postal 48-3, 62251, Cuernavaca, Morelos, Mexico;
Centra de Investigation en Energia, Universidad Autonoma del Estado de Mexico, Estado de Mexico, Mexico, Mexico;
Facultad de Ingenieria Mecanica y Electrica, Universidad Autonoma de Nuevo Leon, Mexico, Mexico;
Facultad de Ciencias, Universidad Autonoma del Estado de Mexico, Estado de Mexico, Mexico, Mexico;
Institute de Ciencias Fisicas, Universidad National Autonoma de Mexico, Apartado Postal 48-3, 62251, Cuernavaca, Morelos, Mexico;
SnS; Thin film; Plasma treatment; Chemical bath deposition;
机译:使用等离子处理修改化学浴沉积CdS的光学和电学性质
机译:通过化学浴沉积法沉积的纯Sn掺杂Sn〜(4+)n-SnS薄膜的光电性能
机译:化学浴沉积沉积的未掺杂和双掺杂n-SnSe薄膜的光电性能
机译:化学浴的光学性质沉积SNS_2薄膜在沉积时间上沉积
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:等离子体增强原子层沉积在低温下沉积的HfO2薄膜的结构光学和电学性质
机译:退火对由化学浴沉积沉积的Au-铜氧化物膜的结构,光学和电性能的作用