机译:络合剂TEA的影响:通过SILAR技术沉积的Fe_xS_x纳米薄膜的结构,形态,形貌和光学性质
Department of Physics, Anna University BIT Campus, Tiruchirappalli 620 024, Tamilnadu, India;
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Department of Chemistry, Anna University BIT Campus, Tiruchirappalli 620 024, Tamilnadu, India;
Department of Physics, M.I.E.T. Arts and Science College, Tiruchirappalli 620 007, Tamilnadu, India;
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Thin films; Coating; Scanning electron microscopy; Atomic force microscopy; Optical properties;
机译:络合剂的作用:化学浴沉积法沉积硫化铜铁薄膜的结构,形态,形貌和光学分析的研究
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机译:络合剂(Na_2-EDTA)对化学沉积FeSe薄膜的结构,形态,电学和光学性质的影响
机译:SILAR沉积的Cu-Zn-S纳米结构薄膜的室温宽范围发光以及结构,光学和电学性质
机译:通过掠角沉积沉积的喹啉金属螯合物薄膜的光学和结构性质。
机译:电泳沉积技术合成的TiO2薄膜的结构形态和光学性质
机译:纳米结构FECDS的结构,电气和光学性能 3 sub>薄膜通过化学喷涂技术沉积:复合物的作用