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机译:外延铜(100)膜中的慢氧化动力学
Rensselaer Polytech Inst, Ctr Mat Devices & Integrated Syst, 110 8th St, Troy, NY 12180 USA;
X-ray photoelectron spectroscopy; Epitaxial film; Oxidation; Morphology; Ambient;
机译:外延(100)铜膜在25°C和50°C时的氧化动力学
机译:通过溅射在Si上外延(100)Ir和(100)Pt薄膜上沉积的Bi4Ti3O12外延薄膜的铁电性能
机译:氧化镁(100)衬底上氮氧化铬薄膜的外延生长及其氧化行为
机译:在具有K2NiF4结构的无铜层状氧化物的外延膜中寻找超导性
机译:考虑相平衡的二氧化钛(100)上外延二氧化钒薄膜中的半导体-金属跃迁
机译:射频磁控溅射在SrTiO3(100)衬底上制备多铁共取代BiFeO3外延膜
机译:X射线衍射测定离子电导混合氧化物外延薄膜的化学应变和氧化还原动力学
机译:通过湿法氧化沉积在si(100)上的非晶siGe层产生的外延si(1-X)GE(x)薄膜的形成